據(jù)新快報報道,三年前,索尼曾經(jīng)送出了一個驚艷的技術,其利用自主開發(fā)的濺射薄層沉積技術,將7.7nm的極細磁顆粒鋪設在磁帶上,實現(xiàn)了高密度磁存儲。而當時他們研制了185TB大的磁帶,讓硬盤倍感乏力。
現(xiàn)在藍色巨人IBM與索尼合作,在濺射薄層沉積技術取得突破,公布了世界上最小的磁體(將原子變成納米級硬盤)。他們準備的新磁帶技術,可以把330TB未壓縮數(shù)據(jù),塞進一個小盒子里,你單手就可以托起。
據(jù)悉,IBM構(gòu)造的這個磁帶的存儲密度為201 Gbit/平方英寸,是當前商用磁帶驅(qū)動器的20倍,這次的新突破意味著磁帶存儲技術可以征戰(zhàn)又一個10年。