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華虹NEC宣布0.13微米嵌入式閃存工藝獲進(jìn)展

近日上海華虹NEC電子有限公司宣布與多家智能卡行業(yè)龍頭設(shè)計(jì)公司的合作順利進(jìn)行?;谌A虹NEC的0.13微米嵌入式閃存工藝(“EF130”)生產(chǎn)的SIM卡產(chǎn)品完成產(chǎn)品的可靠性測(cè)試并進(jìn)入量產(chǎn)階段,從而使EF130工藝的發(fā)展進(jìn)入一個(gè)新的階段。


EF130嵌入式閃存工藝的設(shè)計(jì)平臺(tái)面向智能卡,MCU和SoC等產(chǎn)品。其工藝平臺(tái)擁有中大容量的嵌入式閃存IP,齊全的模擬IP,高速靜態(tài)隨機(jī)存儲(chǔ)器和低功耗設(shè)計(jì)庫(kù),高性能的IO單元以及完善的產(chǎn)品和測(cè)試方案。產(chǎn)品平臺(tái)具備拓展性的1.6-5.5V寬電壓支持能力。嵌入式閃存工藝在工業(yè)溫度范圍內(nèi)已達(dá)到業(yè)界領(lǐng)先的可靠性指標(biāo),運(yùn)用該技術(shù)平臺(tái)開發(fā)的產(chǎn)品的擦寫壽命超過30萬(wàn)次,數(shù)據(jù)保存時(shí)間至少可達(dá)10年。該工藝同時(shí)具有極低的靜態(tài)功耗,相當(dāng)于同類工藝約10%的靜態(tài)功耗,其特性使產(chǎn)品更具競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。

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