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ASML新一代光刻機開始制造 將用于2nm芯片

近日,ASML開始制造新一代極紫外(EUV)光刻機,其每臺造價達到了1.5億美元,約合人民幣近10億元。

  近日,ASML開始制造新一代極紫外(EUV)光刻機,其每臺造價達到了1.5億美元,約合人民幣近10億元。ASML早在之前就表示,全新一代EUV光刻機,也就是NA EUV光刻機可能會在2023年正式下線商用,其將會用于生產(chǎn)制造3nm、2nm等制程的芯片。

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  如今,ASML的全新一代EUV光刻機正式開始生產(chǎn)制造,這意味著新一代EUV光刻機來了,距離下線商用也更進一步。新一代EUV光刻機技術(shù)更為先進,體積自然也更大,大約有一輛公共汽車那么大。整個機器包含10萬個部件和2公里長的電纜。每臺機器發(fā)貨需要40個集裝箱、3架貨機或者20輛卡車。

  造好的組件將于2021年底運往荷蘭維荷芬,然后在2022年初安裝到新一代極紫外光刻機的第一臺原型機中。英特爾可能會使用這種新機器制造出第一批芯片。英特爾表示,預計將在2023年下線第一批芯片。憑借比以往任何機器所蝕刻的圖案尺寸更小,讓每個芯片都有數(shù)百億個元件,這臺機器在未來幾年所生產(chǎn)的芯片應該是史上處理速度最快、效率最高的。

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