據(jù)了解,南大光電承接的“國家科技重大專項(02專項)”,其項目目標(biāo)是:開發(fā)高端集成電路用高端制程光刻膠,建設(shè)一條具備大規(guī)模生產(chǎn)能力、擁有自主知識產(chǎn)權(quán)體系的生產(chǎn)鏈。成立一個能夠與國際先進(jìn)芯片原料接軌的技術(shù)與管理人才團(tuán)隊。負(fù)責(zé)驗收南大光電ArF光刻膠的專家組表示:南大光電在ArF干式、浸沒式系列光刻膠產(chǎn)品上,實現(xiàn)了從原材料制備到應(yīng)用的自給化,有關(guān)光刻膠生產(chǎn)的配膠、分析檢測等技術(shù)環(huán)節(jié),南大光電也全部掌握。
南大光電內(nèi)部形成了由51人組成的ArF光刻膠研發(fā)及生產(chǎn)管理團(tuán)隊。在光刻膠成品的質(zhì)量把控及良品率調(diào)控上,南大光電成功建成ArF光刻膠質(zhì)量控制平臺。目前南大光電已具備年產(chǎn)25噸光刻膠成品的能力,其中包括5噸干式ArF光刻膠、20噸浸沒式ArF光刻膠。截至2021年,南大光電申請專利總計91項、國內(nèi)發(fā)明專利有81項、國際發(fā)明專利4項、實用新型專利6項(已授權(quán))、制定團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)3項、研制新產(chǎn)品2項。
ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的關(guān)鍵材料,目前我國在ArF、KrF光刻膠領(lǐng)域中的市場占比較少,全球大多數(shù)的光刻膠市場都被美國、日本壟斷。作為一家國產(chǎn)企業(yè),南大光電在美日半導(dǎo)體高頻打壓我國半導(dǎo)體行業(yè)的背景下完成突破,為其產(chǎn)品增添了一份特殊的含義。